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普通光敏印壳

详细: 光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辅射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命,完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰,无需印泥,即印即干的特点。其印迹可与印刷品质媲美,是目前最好的、最先进的印章产品,美观耐用,无须印台。
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